Fotolitografija – tai technologija, naudojama mikroelektronikoje ir mikrosistemų gamyboje, kai šviesa per šabloną perduoda miniatiūrinį geometrinį raštą į jautrią šviesai medžiagą (fotorezistą), dengiančią kietąjį paviršių (pvz., silicio plokštelę). Po apšvietimo ir cheminio apdorojimo ant paviršiaus susidaro tikslus raštas, leidžiantis toliau kurti puslaidininkinius įrenginius, mikroschemas ar MEMS (mikroelektromechanines sistemas).
Pavyzdžiai:
1. Procesorių gamyba – fotolitografija naudojama kurdami integruotųjų grandynų (IC) sluoksnius, pvz., tranzistorių vartus ir tarpus jungiančius laidus.
2. MEMS jutiklių kūrimas – technologija leidžia išdrožti mikroskopinius mechaninius elementus (pvz., akselerometrus ar slėgio jutiklius) ant silicio plokštelių.
3. Spalvinių filtrų gamyba ekranuose – naudojama LCD ar OLED ekranuose, kur būtina suformuoti tikslų raštą spalvinių subpikselių filtrams.
Jūsų pataisymai bus išsiųsti moderatorių peržiūrai, jei informacija tikslesnė/taisyklingesnė
ji bus patalpinta vietoj esamos.