elipsometrija

Elipsometrija – tai optinis matavimo metodas, kuris tiria šviesos poliarizacijos pokyčius atsispindėjus nuo paviršiaus arba prasiskverbus per medžiagą. Jis dažniausiai naudojamas plonų sluoksnių storiams, lūžio rodikliams ir paviršiaus savybėms nustatyti be fizinio kontakto.

Pagrindinė idėja:
Matuojama, kaip keičiasi šviesos poliarizacijos būsena (pvz., elipsės forma) sąveikaujant su mėginiu. Iš šių pokyčių galima apskaičiuoti medžiagos optines konstantas.

Pavyzdžiai taikymo:
1. Puslaidininkiai ir mikroelektronika
– Sluoksnių (SiO₂, nitridų) storio ir kokybės kontrolė ant silicio plokščių.
2. Biomedicina
– Baltymų ar DNR adsorbcijos tyrimai ant paviršių, biosensoriuose.
3. Dangų ir lęšių gamyba
– Optinių dangų (priešareflekinių, veidrodinių) charakteristikų optimizavimas.

Trumpai: Elipsometrija – neardomasis metodas, leidžiantis tiksliai analizuoti plonų sluoksnių savybes šviesos poliarizacijos pokyčių pagrindu.

Įrašas
Paaiškinimas	Elipsometrija – tai optinis matavimo metodas, kuris tiria šviesos poliarizacijos pokyčius atsispindėjus nuo paviršiaus arba prasiskverbus per medžiagą. Jis dažniausiai naudojamas plonų sluoksnių storiams, lūžio rodikliams ir paviršiaus savybėms nustatyti be fizinio kontakto. Pagrindinė idėja: Matuojama, kaip keičiasi šviesos poliarizacijos būsena (pvz., elipsės forma) sąveikaujant su mėginiu. Iš šių pokyčių galima apskaičiuoti medžiagos optines konstantas. Pavyzdžiai taikymo: 1. Puslaidininkiai ir mikroelektronika – Sluoksnių (SiO₂, nitridų) storio ir kokybės kontrolė ant silicio plokščių. 2. Biomedicina – Baltymų ar DNR adsorbcijos tyrimai ant paviršių, biosensoriuose. 3. Dangų ir lęšių gamyba – Optinių dangų (priešareflekinių, veidrodinių) charakteristikų optimizavimas. Trumpai: Elipsometrija – neardomasis metodas, leidžiantis tiksliai analizuoti plonų sluoksnių savybes šviesos poliarizacijos pokyčių pagrindu.
	Išsaugoti

Jūsų pataisymai bus išsiųsti moderatorių peržiūrai, jei informacija tikslesnė/taisyklingesnė
ji bus patalpinta vietoj esamos.